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铜核BGA球在多层堆叠射频SiP上的应用
来源:射频微组装 | 作者:暂无 | 发布时间: 2024-12-30 | 76 次浏览 | 分享到:
随着军事电子装备和民用通信系统复杂度的日益提升, 射频集成技术正从传统的混合集成技术、多芯片组件技术向芯片化的系统级封装技术(SiP) 快速发展。通过在SiP内对多个芯片进行平面或立体堆叠集成,极大的提高了系统集成度,减轻了系统的体积和重量。

一、什么是SiP

SiP,全称为系统级封装(System in Package),是一种先进的封装技术,它将多个芯片及电子器件集成在一个芯片封装内,以实现高集成及高性能。SiP具有如下优点:
1)高集成。在一个芯片封装内集成多个芯片及电子器件,提高了集成度,减小了系统的体积和重量;
2)高性能。SiP在单一芯片封装内集成了多个芯片及元器件,信号传输路线更短,损耗更小、功耗更低、信号传输速度越快;
3)高可靠。SiP封装时已进行相关的筛选、老炼及试验验证,验证充分,因此SiP的可靠性较高,另外,对于系统而言,减少了器件的种类及数量,因此提高了系统可靠性;
4)更灵活。SiP可以根据系统的需求进行定义,系统需求变更时,只需替换相应的SiP即可,系统设计及应用更灵活。

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二、射频SiP出现的背景及意义
随着军事电子装备和民用通信系统复杂度的日益提升, 射频集成技术正从传统的混合集成技术、多芯片组件技术向芯片化的系统级封装技术(SiP) 快速发展。通过在SiP内对多个芯片进行平面或立体堆叠集成,极大的提高了系统集成度,减轻了系统的体积和重量。射频SiP得以快速发展,原因主要有以下几个方面:
1)缩短了研发周期。通过将系统分解为多个功能SiP,系统的研发难度大幅降低。且单个SiP可以快速验证,多个SiP可以并行研制,因此,系统的研发速度得以大幅加快。
2)降低了研制费用。由于SiP的研制费用相对较低,而SiP的技术成熟度相对较高,因此降低了系统研制的风险,降低了研制费用。另外,SiP可以复用,也避免了重复投入。
3)集成度更高。SiP采用微组装工艺或半导体集成工艺进行集成,集成技术较为先进,另外,SiP可对芯片进行并排或立体堆叠,可极大提高系统集成度。
4)可解决异质集成问题。目前半导体工艺技术尚不能将Si、SiGe、GaAs、GaN等不同材料和工艺的芯片集成在一片晶圆上。而SiP可以采用表面贴装技术和微组装工艺将不同类型芯片、无源和有源器件集成在一个芯片封装内,实现较为负载的功能。
三、铜核BGA球在射频SiP上的应用
为了提高集成度,射频SiP正在由2D集成的SiP向2.5D、3D集成的SiP发展。

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由于采用的集成工艺不同,2.5D、3D射频SiP的形式也不同,其中一种2.5D集成的射频SiP由多层高密度基板堆叠而成,多层高密度基板间使用锡球进行信号传输。

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在某些射频SiP中,高密度基板上有裸芯片及键合互连线,因此锡球既进行信号传输,同时又作为结构支撑,作为结构支撑时,为了保护裸芯片及键合互连线不受损害,需要严格控制锡球焊接后的高度,在此背景下,铜核球的优势就凸显了。

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铜核球是一种复合式多层次的焊锡球,一般包含铜球、镀镍层、镀锡层三部分。铜球核心是铜,直径一般在0.03-0.5mm;镀镍层厚度一般在2-3um,主要作用是降低铜球和基板或钎料镀层之间的润湿行为,有效的防止铜和基板或钎料镀层中其它金属间的扩散,镀镍层为非必需层,可以根据基板材质和钎料镀层进行考虑;钎料镀层是铜核球的有效焊接部分,厚度通常在3-30um,成分可以根据焊接性能和条件不同采用纯锡,SAC,SC等。
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铜核球除了确保层间高度可控外,还具有导电、导热性好的优点,原因在于铜核芯的导电性能是锡的5-10